近日，国际知名行业媒体Semiconductor Review 公布了“2026年亚洲最佳氮化铝单晶衬底制造商（Top AlN Single Crystal Wafer Substrate Manufacturer in Asia 2026）”评选结果，奥趋光电技术（杭州）有限公司凭借在超宽禁带半导体氮化铝单晶衬底领域的技术突破与产业化实践，以及在客户与行业同仁中享有的卓越声誉与高度信任，斩获此项殊荣，且为该奖项唯一获奖企业。
作为当前全球极少数几家具备高质量、大尺寸第四代半导体氮化铝单晶衬底全套制程能力的领军企业，奥趋光电凭借在设备开发、热场设计、晶体生长、切磨抛精密加工等关键环节的持续突破，实现了2英寸氮化铝单晶晶圆的小批量生产，并在深紫外透过率等核心指标上实现行业领先水平。自2025年成功发布2-4英寸氮化铝单晶衬底全流程高良率工艺解决方案以来，公司实现了制造良率的跨越式提升，形成了面向海内外市场的批量稳定供货能力，客户覆盖亚洲、欧洲、北美等地区超过160家企业与科研机构，产品广泛应用于深紫外光电、高功率射频器件及下一代功率电子等领域，并与中国科学院长春光学精密机械与物理研究所等国内外顶尖器件团队建立了全面战略合作关系。此次获奖既肯定了奥趋光电在高端衬底材料领域的技术纵深，也充分印证了公司作为氮化铝产业化先行者的行业引领地位。
Semiconductor Review是全球半导体行业深具影响力的专业媒体平台，聚焦半导体制造、设备、材料及前沿技术发展，长期为行业决策者提供深度分析与权威报道。其亚太版（Semiconductor Review APAC）则专注于报导亚太地区半导体产业链的技术创新与产业动态，每年发掘并表彰区域内表现卓越的半导体企业。荣膺“2026年亚洲最佳氮化铝单晶衬底制造商”，不仅是对奥趋光电在超宽禁带半导体材料领域技术深耕的权威肯定，更标志着公司在推动氮化铝单晶衬底从产品研发、小批量应用迈向规模化应用这一高难度路径上，获得了行业广泛认可。
奥趋光电创始人、CEO吴亮博士在接受Semiconductor Review专访（报导链接：
https://www.semiconductorreviewapac.com/ultratrend-technologies-2026）时表示：“氮化铝单晶衬底的产业化，不仅在于晶体生长本身，更在于其能否真正实现批量化并融入现有器件制造体系。我们将持续深耕氮化铝材料技术，并推动其在高端半导体器件领域的规模化应用。”氮化铝预计将成为超宽禁带半导体材料中率先实现大规模化产业化的代表之一。目前，奥趋光电正积极推进2-4英寸氮化铝单晶衬底产能扩张计划，并规划建设更大规模的生产线，以进一步降低制造成本、提升氮化铝单晶衬底材料供应链稳定性，为未来先进半导体技术和众多高技术产业发展提供坚实材料支撑。
关于Semiconductor Review
美国Semiconductor Review是一本专注于半导体行业领先科技的权威商业与技术杂志，成立于2002年。该杂志同步发行印刷版与数字版，致力于分享全球半导体产业内最具创新与发展潜力公司的技术或专业知识，并为半导体企业提供经验分享、挑战分析和行业见解，内容涵盖半导体技术、半导体器件和应用的设计、测试、集成和制造等多个方面。Semiconductor Review通过其专业的报道和分析，为半导体企业提供有价值的信息和见解，推动行业的持续发展和创新。
Semiconductor Review针对亚太地区专门设立Semiconductor Review APAC（亚太版），聚焦亚太半导体产业链的技术创新与产业动态。作为全球半导体制造的核心区域，亚太地区汇聚了众多顶尖的晶圆厂、封装测试企业与材料、设备制造商，Semiconductor Review APAC致力于为这一区域的行业决策者与技术实践者提供具有区域针对性的深度报道与专业洞察，持续关注从材料、制造到应用的全产业链发展，并定期评选表彰在区域内表现卓越的半导体企业。
关于奥趋光电
奥趋光电是由海归博士团队、半导体领域顶尖技术专家领衔的高技术、创新型企业，总部位于浙江省杭州市。奥趋光电核心专注于第四代超宽禁带半导体氮化铝晶圆衬底材料、蓝宝石基/硅基氮化铝/氮化铝钪薄膜模板、全自动氮化铝PVT气相沉积炉及其相关产品的研发、制造与销售，核心产品被列入《中国制造2025》关键战略新材料与装备目录，是制备5.5G/6G基站射频HEMT器件、相控阵雷达T/R芯片、紫外光电探测器/传感器等各类高温/高频射频器件、高频/高功率电子器件、紫外发光及激光器件的理想衬底材料。
奥趋光电经过多年的高强度研发投入，于2019年成功开发出全球最大，直径60mm的氮化铝单晶及晶圆，并于2022年开发出直径达76mm的铝极性氮化铝单晶及3英寸晶圆样片，奥趋光电同时也是全球首家蓝宝石基氮化铝薄膜模板大批量制造商。目前可向客户提供2英寸及以下尺寸高质量氮化铝单晶衬底、2/4/6英寸蓝宝石基/硅基/碳化硅基氮化铝、氮化铝钪薄膜模板、氮化铝单晶气相沉积炉及热处理设备等产品，同时向客户及合作伙伴提供从设备设计、热场设计、热场模拟仿真技术开发、咨询及生长工艺优化到晶圆制程等全环节的完整工艺解决方案与专业技术服务。截止2025年12月，共申请/授权国际、国内专利60余项，是全球范围内本领域专利数量最多的企业之一，被公认为本领域全球技术的领导者。