动态 | 奥趋光电应微电子学院龙世兵执行院长邀请拜访中国科学技术大学

2022-07-25 管理员


中国科学技术大学(以下简称“中科大”)作为中国科学院直属的以前沿科学和高新技术为主的综合性高等学府,数年来与奥趋光电在宽禁带半导体材料和应用技术领域保持着持续的沟通、交流与合作。7月19日,应微电子学院执行院长龙世兵教授的邀请,奥趋光电首席执行官吴亮博士拜访中科大,进行学术交流与合作洽谈。

中国科学技术大学(以下简称“中科大”)作为中国科学院直属的以前沿科学和高新技术为主的综合性高等学府,数年来与奥趋光电在宽禁带半导体材料和应用技术领域保持着持续的沟通、交流与合作。7月19日,应微电子学院执行院长龙世兵教授的邀请,奥趋光电首席执行官吴亮博士拜访中科大,进行学术交流与合作洽谈。 

                                          

 

在微电子学院,吴亮博士与龙世兵教授、杨树教授等二十余位专家学者、教职员工和科研人员进行了座谈,并随后做了题为“大尺寸、高质量氮化铝单晶生长最新进展及其应用前景挑战”的学术报告,介绍了奥趋光电在氮化铝单晶PVT生长设备、模拟仿真软件、晶体生长工艺及单晶衬底制备领域的最新进展。报告结束后,与会人员围绕氧化镓、氮化铝等超宽禁带半导体材料的技术开发和器件应用展开了热烈、深入的讨论。参与讨论后,龙世兵教授指出,奥趋光电与中科大微电子学院均长期专注于宽禁带半导体前沿领域关键技术,各自优势具有非常强的互补性,希望会后双方在宽禁带材料、器件设计与工艺、人才交流与培养等方面加强合作,实现共赢。吴亮博士表示,龙院长带领的团队底蕴深厚,人才济济,在超宽禁带半导体氧化镓器件、存储器等先进技术领域取得了具有世界影响力的创新成果;而由于材料多年对华禁运等原因,基于氮化铝单晶的器件在国内的基础还比较薄弱,双方的合作将对促进相关技术突破、人才培养等具有重要意义。最后,双方就下一步材料基础性问题研究及下游器件开发等方面的协作计划深入交换了意见,并就未来双方的人才交流、产学研合作等事项达成了广泛共识。 

 

 

 

关于中国科学技术大学

 

中国科学技术大学是中国科学院所属的一所以前沿科学和高新技术为主、兼有医学和特色文科的综合性全国重点大学。学校现有30个学院(学部),含7个科教融合学院;设有苏州高等研究院、上海研究院、北京研究院、先进技术研究院、国际金融研究院、附属第一医院(安徽省立医院)。

 

学校于1958年9月在北京创建,郭沫若任首任校长。这是我党亲手创办的红色大学,是为“两弹一星”事业而建立的大学,她的创办被称为“我国教育史和科学史上的一项重大事件”。建校后,中国科学院实施“全院办校、所系结合”的办学方针,高起点、宽口径培养新兴、边缘、交叉学科的尖端科技人才,汇集了严济慈、华罗庚、钱学森、赵忠尧、郭永怀、赵九章、贝时璋等一批著名科学家,建校第二年即被列为全国重点大学。

 

1970年初,学校迁至安徽省合肥市。1978年以来,学校锐意改革、大胆创新,在全国率先提出并实施一系列具有创新精神和前瞻意识的教育改革措施,创办少年班、首建研究生院、建设国家大科学工程、面向世界开放办学等,成为国家高质量人才培养和高水平科学研究的重要基地,是国家首批实施“985工程”和“211工程”的大学之一。2017年9月,学校入选全国首批世界一流大学和世界一流学科建设高校,共有11个学科入选世界一流学科建设名单。建校60多年来,学校坚持红专并进、理实交融的校训,敢为人先,锐意进取,培养了大批德才兼备的优秀人才,取得了一系列举世瞩目的科研成果,为党和国家事业发展作出了重要贡献。

关于奥趋光电

 

奥趋光电是由海归博士团队、半导体领域顶尖技术专家领衔,于2016年5月创立的高新技术、创新型企业,总部位于浙江省杭州市。奥趋光电核心专注于第三代/第四代超宽禁带半导体氮化铝晶圆衬底材料、蓝宝石基/硅基/碳化硅基氮化铝/氮化铝钪薄膜模板、全自动氮化铝PVT气相沉积炉及其相关产品的研发、制造与销售,核心产品被列入《中国制造2025》关键战略新材料与装备目录,是制备深紫外LED芯片、5G射频前端滤波器、MEMS压电传感器等各类紫外发光器件、高温/高频射频器件、高频/高功率电子及激光器件的理想衬底/压电材料。

 

奥趋光电经过多年的高强度研发投入,成功开发出全球最大,直径60mm的氮化铝单晶及晶圆,也是全球首家蓝宝石基氮化铝薄膜模板大批量制造商。目前可向客户提供2英寸及以下尺寸高质量氮化铝单晶衬底、2/4/6英寸蓝宝石基/硅基/碳化硅基氮化铝、氮化铝钪薄膜模板、氮化铝单晶气相沉积炉及热处理设备等产品,同时向客户及合作伙伴提供从设备设计、热场设计、热场模拟仿真技术开发、咨询及生长工艺优化到晶圆制程等全环节的完整工艺解决方案与专业技术服务。截止2022年6月,共申请/授权国际、国内专利50余项,是全球范围内本领域专利数量最多的团队之一,被公认为本领域全球技术的领导者。